TEL ACT12涂胶显影设备

Application:G-LINE 90nm
MAX Throughput:150WPH(200mm)/120WPH(300mm)
Wafer Size:200/300mm
广泛用于MEMS、LED、功率器件等行业

适用于8寸及12寸

提供光刻、涂胶显影设备零部件和耗材

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