TEL ACT8涂胶显影设备
Application:200nm
MAX Throughput:100WPH
Wafer Size:200mm
广泛用于MEMS、LED、功率器件等行业
适用于4寸、6寸及8寸
提供光刻、涂胶显影设备零部件和耗材
更多型号设备,欢迎致电或继续游览网站
TEL ACT8
产品中心
Products Center
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TEL ACT8涂胶显影设备
Application:200nm
MAX Throughput:100WPH
Wafer Size:200mm
广泛用于MEMS、LED、功率器件等行业
适用于4寸、6寸及8寸
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