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TEL Lithius涂胶显影设备

 

Application:I-LINE 45nm
MAX Throughput:150WPH
Wafer Size:300mm
广泛用于MEMS、LED、功率器件等行业

适用于8寸、12寸

 

 

 

 

提供光刻、涂胶显影设备零部件和耗材

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ꄴ前一个： TEL ACT12
ꄲ后一个： TEL Lithius Pro-i
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