LA200全自动对准光刻设备

• 光源波长365nm&405nm、混合波长
• 分辨率0.8um
• 主要用于4寸、6寸及8寸生产线
• 广泛用于MEMS、LED、功率器件、化合物半导体、晶圆封装等行业

主要技术指标

更多服务

自研设备提供中英文操作界面选项

可应用于4''、6''、8"不同尺寸硅片

可提供各种光刻、涂胶显影设备零部件和耗材

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