喜讯｜上海图双自主研发光刻设备交付成功！

      2024年7月31日，上海图双精密装备有限公司自主研发的LA200全自动对准光刻设备成功交付。这不仅标志着图双在半导体核心装备制造领域的全新起点，更彰显了其在高端制造技术自主创新方面的卓越实力。

      全自动对准光刻设备LA200配备高质量成像系统、精密运动控制单元及智能图像处理算法，通过高精度对准策略实现全自动对准曝光。LA200可提供多波段、多种照明方式、多种对准方式、多种曝光方式。具有广泛的工艺适应性。双机械手臂的上下片方式可达到100片/小时以上的高产率生产。

      此次光刻设备的成功交付是上海图双自主创新研发的重要里程碑，我司将继续加大研发投入，优化产品性能，拓展应用领域，满足国内外客户需求，推动产业持续升级。