SEMICON China 2024圆满收官丨上海图双精彩回顾

2024年3月22日，备受瞩目的SEMICON China 2024展会在上海新国际博览中心成功闭幕。这一盛会汇集了众多行业领袖，专家学者和顶尖企业，共同探讨和展望半导体行业的未来发展方向与潜在机遇。在本次展会上，上海图双精密装备有限公司展出了自主研发的LA200掩膜对准曝光机，赢得了业界的广泛关注和好评。

上海图双精密装备有限公司在展会上展示了其自主研发的掩膜对准曝光机以及一系列备件样品。新设备的展出立即吸引了众多参观者的目光，引发了业界的热议。业内人士纷纷驻足于上海图双的展位，深入立即设备的产品特点和性能。

LA200掩模对准曝光机的推出标志着上海图双在半导体设备制造领域的持续创新和技术积累。我们坚信，这款设备将为客户带来丰富的生产效率提升和卓越的产品质量保证。上海图双将持续投身于高性能、环保型半导体制造设备的研发，致力于为全球半导体产业的繁荣发展作出积极贡献。

上海图双精密装备有限公司秉承“诚实守信、严谨敬业、高效创新”的企业精神，始终将客户的需求放在首位，以精湛的工艺和先进的技术为核心竞争力，全力为客户提供优质服务，不断推动行业技术的进步，携手共创美好的未来！