LA200全自动对准曝光机

◆先进光源：采用UV-LED作为曝光光源，可以实现i-线、h-线或i&h混合的曝光波长。
◆高对准精度：同时具备手动对准与自动对准模式，且配备高质量成像系统、精密的运动控制单元及智能图像处理算法，满足客户对高精度对准的需求。
◆多种工艺适应性：配备正面对准、背面对准系统，同时包含同轴照明和离轴照明方式，具有广泛的工艺适应性。
◆高产率低成本：采用双机械手臂的上下片方式，有效提高产率，可达到90片/小时；相比于汞灯照明设备，其功耗更低，可维护性强且维护成本低。
◆多种曝光模式：具备接近式、接触式（软接触、硬接触）等曝光模式。
◆多类市场应用：适用于MEMS、LED、功率器件、化合物半导体、晶圆封装等行业。